について

Sunredveichiは、半導体プロセス機器の研究開発、製造、販売に焦点を当てた全国レベルのハイテク企業として、青島市の革新的な企業のベンチマーク代表です。会社は強い技術力によって支えられ、厳密な質の管理システムに基づいています。それはISO9001国際的な品質管理システムの証明に合格しました。半導体装置製造、YIG/RIG磁気光学結晶材料、グラフェンおよびカーボンナノチューブCVD成長装置、高純度半導体材料浄化、希土類金属浄化などのコア分野でハイエンドでプロフェッショナルなブランドイメージを確立しています。

垂直真空焼結炉

Ltは、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、リチウムニオブ酸、タンタル酸リチウムなどの光学結晶、およびヨウ化ナトリウム、ヨウ化セシウム、ゲルマニウム酸ビスマスなどのシンチレーション結晶の成長に適用されます。Ltは、メタルハライドペロブスカイトなどの新しい結晶材料の成長にも使用できます。

無酸素オーブン

無酸素オーブンは、半導体のダストフリー乾燥などのプロセスで使用されます。装置の操作の間に、部屋の酸素内容はセットされます。このシステムは、チャンバー内の酸素含有量に応じてN2の供給を自動的にアクティブにし、設定された範囲内の酸素含有量を制御します。これにより、ベーキングプロセス中に材料が酸化されるのを防ぎます。

スイング炉連続溶融炉

高純度材料スイング炉は、高純度材料を処理するために特別に設計された装置であり、その中心的な特徴はスイング機能です。操作中、炉本体は特定の角度および周波数でスイング運動を行うことができる。加熱プロセス中、高純度材料は炉内に配置され、抵抗加熱法は材料を事前設定された温度に加熱するために使用されます。一方、炉本体の揺れは、材料の均一な混合、熱伝達、および化学反応の進行を促進し、材料内の温度勾配および組成の分離を低減し、それによって材料の純度および品質の均一性を向上させることができる。

真空蒸留炉

真空蒸留炉は、高純度の浄化と元素金属の準備のために特別に設計されています。コアは、セレン (Se) 、テルル (Te) 、アンチモン (Sb) 、ガリウム (Ga) 、カドミウム (Cd) 、ゲルマニウム (Ge) などの主要な高純度金属の深い浄化に焦点を当てています。原料から不純物成分を効果的に除去し、高純度金属の準備を安定させることができます。半導体材料、オプトエレクトロニクス、赤外線材料、高純度化学物質、高度合金の分野における原材料の生産と品質の向上に広く使用されています。

真空水素炉/アニーリング炉/焼結炉

これは、航空宇宙、電気真空、および熱処理産業に適用できます。銅、チタン、タングステン、モリブデン、アルミホイル、高速鋼、ステンレス鋼、モネル合金、パーマロイなどの材料でアニーリング処理を行うことができます。また、さまざまな電気真空装置の焼結およびろう付けプロセスの要件、ならびにセラミック材料、磁性材料、および希少耐火金属の還元、焼結、アニーリング、および表面処理のプロセスを満たしています。

拡散炉

これは主に、半導体材料の不純物分布と電気的特性を制御する集積回路、ディスクリートデバイス、パワーエレクトロニクスデバイスでのドーピング、酸化、アニーリング、合金化、焼結などのプロセスに適用されます。一方、オプトエレクトロニクスデバイスの熱拡散と酸化のプロセス、および熱酸化や熱拡散などのカリキュラム設計など、大学や研究機関でのマイクロエレクトロニクスプロセスの実験教育をサポートしています。

垂直拡散炉

これは主に、集積回路、電源デバイス、MEMS、VCSELなどの半導体デバイスの製造と製造に使用されます。主な機能には、ウェーハの拡散、酸化、アニーリングなどのプロセスを実行して、正確なドーピング電流純度を実現し、トランジスタ、抵抗器、コンデンサなどのコンポーネントを構築することが含まれます。たとえば、28nm以上のノードを持つ集積回路の製造に使用されます。